機(jī)械密封干涉條紋數(shù)量的確定方法是通過光干涉法，使用光學(xué)平晶和單色光源(如鈉光燈)進(jìn)行檢測(cè)‌。具體步驟如下：

　　1.將光學(xué)平晶放置在密封端面上，斜上方用鈉光燈照射。檢查干涉條紋的數(shù)量，通過干涉條紋的數(shù)量即可確定密封端面的平面度‌

　　2.干涉條紋的數(shù)量與平面度有關(guān)：

　　平直的條紋表明密封端面的平面度接近光學(xué)平晶，平面度最高。

　　彎曲的條紋數(shù)量較少時(shí)，平面度較好;數(shù)量較多時(shí)，平面度較差‌

　　3.不同平面度的密封端面會(huì)呈現(xiàn)不同類型的干涉條紋：

　　平直的條紋表示平面度最高。

　　彎曲的條紋數(shù)量較少時(shí)，平面度較好。

　　同心圓狀的干涉條紋表示端面內(nèi)外緣高低差別較大，平面度較差
 

　　密封端面的平面度不同，條紋的種類也不同。圖16表示了幾種平面度合格的圖像，至于不合格的圖像各式各樣未予繪出。

　　圖16a是平直的條紋，表明密封端面的平面度接近光學(xué)平晶的平面度，因此這種平面度最高;圖16b是彎曲的條紋，干涉條紋數(shù)在一條以內(nèi)，即小于0.3μm;圖16c也是彎曲的條紋，干涉條紋數(shù)為兩條，平面度在0.6μm以內(nèi);圖16d是同心圓狀的干涉條紋，如果是從平板研磨后取下來檢驗(yàn)平面度，這說明端面的內(nèi)緣高，外緣較低，同心圓數(shù)量越多，其內(nèi)外緣高低差別越大。對(duì)壓力不高的密封不能超過3個(gè)同心圓(按平面度0.0009mm控制)，否則密封端面泄漏量過大。在壓力較高的平衡型密封中，可能將密封端面推開，因此，如出現(xiàn)同心圓狀的條紋，不要超過2個(gè)。

　　平面度檢驗(yàn)時(shí)務(wù)必經(jīng)拋光后才能進(jìn)行，否則，表面光潔度不夠，條紋照射不出來，尤其對(duì)石墨環(huán)更是這樣。此外，平晶和密封環(huán)端面要擦干凈，不得有水分和灰塵，平晶要精心保管，避免將面擦傷。為了保證檢驗(yàn)的精度，還應(yīng)對(duì)平晶定期校驗(yàn)。